磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，濺射靶材的要求較傳統材料行業高，一般要求如，尺寸、平整度、純度、各項雜質含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制；較高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物(氧化物)含量與尺寸、導磁率、超高密度與超細晶粒等等。

AZO是鋁摻雜的氧化鋅(ZnO)透明導電玻璃的簡稱，ZnO薄膜是一種重要的光電子信息材料，不僅具有與傳統的ITO薄膜相比擬的光電性質，而且原料豐富，價格低，無毒性，熱穩定性高，在太陽能電池、液晶顯示器及光電探測器等領域有著廣泛的應用前景。

氧化鋅鋁靶材的制備方法包括以下步驟：

1、以鋅鹽和鋁鹽為原料，加純水溶解，調pH至7.0～10.5，然后在水熱條件下，控溫90～140℃反應1.0～2.0小時；

2、過濾使產物和母液分離，用純水洗滌、烘干，得到氧化鋅鋁粉體；

3、所得粉體在400～550℃煅燒2小時；

4、將所得粉體裝入真空熱壓爐，抽真空1～100Pa，加壓50～100MPa，然后慢慢升溫，在1200～1400℃內保溫燒結2～5小時，再緩慢降溫，制得相對密度不低于95%的氧化鋅鋁(ZAO)陶瓷靶材。